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  • 單溫區(qū)立式管式爐
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    單溫區(qū)立式管式爐,該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,適用于快速熱處理和淬火工藝,應用在半導體,納米技術、碳纖維等新材料新工藝領域。

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  • 1600℃立式單溫區(qū)管式電爐
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    1600℃立式單溫區(qū)管式電爐,該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,適用于快速熱處理和淬火工藝,應用在半導體,納米技術、碳纖維等新材料新工藝領域。

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  • 1400℃立式單溫區(qū)管式電爐
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    1400℃立式單溫區(qū)管式電爐,該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,適用于快速熱處理和淬火工藝,應用在半導體,納米技術、碳纖維等新材料新工藝領域。

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  • 1200℃立式雙溫區(qū)管式電爐
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    1200℃立式雙溫區(qū)管式電爐,該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,適用于快速熱處理和淬火工藝,應用在半導體,納米技術、碳纖維等新材料新工藝領域。

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  • 1200℃立式單溫區(qū)管式電爐
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    1200℃立式單溫區(qū)管式電爐,該系列電爐系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室、大專院校、科研院所等單位選用。設備為用戶提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,適用于快速熱處理和淬火工藝,應用在半導體,納米技術、碳纖維等新材料新工藝領域。

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